磁控濺射設備MSP-1S濺射金屬粒子的比較分析
該設備專用于貴金屬薄膜鍍膜,用于SEM觀察。這是一種用貴金屬涂覆 SEM 樣品以防止充電并提高二次電子產生效率的裝置。
除了使用磁控管靶電極進行低壓放電外,還將樣品臺制成浮動式,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按一下按鈕,任何人都可以輕松操作。由于它有內置泵,因此體積小,不占用太多空間。它放在辦公桌的一角會很有用。
該產品是一套,包括設備本身和一種目標金屬(請注明類型)。
由于這是一個簡單的設備,因此不包括安裝說明。
Au:金
觀察面積:數千至10,000倍
Au-Pd:金鈀
觀察面積:10,000至50,000倍
適合低倍率觀察,對比度良好。
Pt:鉑
觀察面積:10,000~50,000倍
Pt-Pd:鉑鈀
觀察面積:30,000~50,000倍
粒徑細小,常用于高倍率觀察。
該裝置的主要用途是在臺式SEM或通用SEM觀察之前進行導電涂層。
*如果您使用能夠進行高倍率觀察的FE-SEM,請考慮使用鎢濺射裝置(MSP-20TK)或鋨鍍膜機(HPC-20)。
*如果您優先考慮電極制作等的薄膜質量,請考慮可在氬氣氣氛中濺射的MSP-20系列。
物品 | 規格 |
---|---|
電源 | AC100V(單相100V 10A)3P帶地插頭1口 |
設備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高345mm (設備重量:14.6Kg) |
旋轉泵 | 10L/min(裝置內置) |
樣品室尺寸 | 內徑120mm x 高65mm(硬玻璃) |
樣品臺尺寸 | 直徑50mm(浮動法) |
電極-樣品臺距離 | 35mm(使用輔助樣品臺時為25mm) |
目標 | Φ51mm,厚度0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag(t0.5mm) |
MSP-1S 的
金靶材
[t=0.1mm]
MSP-1S 的
Pt 靶材
[t=0.1mm]
MSP-1S [t=0.1mm]
Au-Pd 靶材Au60%: Pd40%
MSP-20UM 的
Pt-Pd 靶材
[t=0.1mm]
Pt80%: Pd20%
MSP-1S 的
銀靶材
[t=0.5mm]
MSP-1S 的玻璃管包裝(1 套 2 個)
MSP-1S 的玻璃腔室
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